项目简介:
本项目采用的工艺为盘式过滤器+超滤+阻垢剂添加装置+板式换热器+双级反渗透+EDI+TOC降解器+脱气膜+抛光混床+除硼阴床,设备产水达到《美国ASTM电子级半导体工业用水要求》Type E-1.1级,设备产水用于线宽为0.3μm的集成电路的生产。